Konštrukcia stroja na plazmové leptanie

Zariadenie ICP pozostáva hlavne zo štyroch častí: pred{0}}vákuová komora, leptacia komora, systém prívodu plynu a vákuový systém.

(1) Pred-vákuová komora

Funkciou predvákuovej komory je zabezpečiť, aby sa leptacia komora udržiavala na nastavenej úrovni vákua, nebola ovplyvnená vonkajším prostredím (ako je prach, vodná para) a izolovala nebezpečné plyny z čistej miestnosti. Skladá sa z krytu, manipulátora, prevodového mechanizmu, izolačných dverí atď.

(2) Leptacia komora

Leptacia komora je základnou štruktúrou ICP leptacieho zariadenia. Má priamy vplyv na rýchlosť leptania, zvislosť leptania a drsnosť. Hlavnými komponentmi leptacej komory sú: horná elektróda, ICP rádiofrekvenčná jednotka, RF rádiofrekvenčná jednotka, systém spodnej elektródy, systém regulácie teploty atď.

(3) Systém dodávky plynu

Systém dodávky plynu má dodávať rôzne leptacie plyny do leptacej komory a presne regulovať prietok plynu a prietok cez regulátor tlaku (PC) a regulátor hmotnostného prietoku (MFC). Systém dodávky plynu pozostáva zo zdroja plynu, plynového potrubia, riadiaceho systému, zmiešavacej jednotky atď.

(4) Vákuový systém
Existujú dva vákuové systémy, jeden pre predvákuovú komoru a druhý pre leptaciu komoru. Predvákuová komora sa evakuuje mechanickým čerpadlom. Až keď úroveň vákua v predvákuovej komore dosiahne nastavenú hodnotu, je možné otvoriť izolačné dvierka a preniesť plátok. Vákuum v leptacej komore zabezpečuje mechanické čerpadlo a molekulárne čerpadlo. Plyny vznikajúce pri reakcii v leptacej komore sú tiež odsávané vákuovým systémom.